Witamy klientów, aby odwiedzić powłokę SIC VeteSemicon/ powlekanie TAC i fabryka procesów epitaxy

Klienci odwiedzają fabrykę: Promuj nowy rozdział współpracy

Niedawno jesteśmy bardzo zaszczyceni, aby przyjąć ważnych klientów z wielu regionów na całym świecie, aby odwiedzić fabrykę Vetek Semiconductor w Chinach. Ta wizyta nie tylko pozwala klientom uzyskać dogłębne zrozumienie naszych innowacji technologicznych i siły produkcji w dziedzinieProces epitaxii półprzewodnikowejoraz powłoka półprzewodników, ale także dalej pogłębia nasze relacje współpracujące z klientami.

Klienci Veteksemicon sprawdzają szczegóły dotyczące podataków epitaksjalnych pokrytych węglerem tantalowym

Wizyta fabryczna: dogłębne zrozumienie procesu produkcyjnego

Podczas wizyty klienci okazali duże zainteresowanie naszymiPowłoka z węglików silikonowychIPowłoka z węglikiem tantalulinie produkcyjne. Nasz zespół badawczo -rozwojowy szczegółowo wprowadził techniczne zalety produktów i surowego systemu kontroli jakości. Jako wiodący producent powłoki z węglików krzemowych i powłoki z węglika Tantalu, zawsze jesteśmy zaangażowani w stosowanie najbardziej najnowocześniejszej technologii do projektowania i produkcji produktu, aby zapewnić, że każdy komponent spełnia standardy międzynarodowe i może zaspokoić potrzeby różnych klientów.

Wyświetlanie technologii: kierowanie kierunkiem rozwoju branży

Podczas wizyty nasza firma zademonstrowała najnowszy rozwiniętyRozwiązanie procesu epitaksjalnego, obejmujący pełny proces od projektowania, produkcji do kontroli jakości. Nasze zdolności innowacyjne były bardzo rozpoznawane przez klientów i są pełne oczekiwań dotyczących przyszłej współpracy. Zwłaszcza w dziedzinie zastosowań powlekania półprzewodników Vetek Semiconductor nieustannie promuje rozwój branży dzięki unikalnym zaletom technicznym i spostrzeżeniu rynkowym.

Future Outlook: pogłębia współpracę i Win-Win Future

Ta wizyta klienta jest nie tylko uznaniem naszej siły produkcyjnej, ale także stanowi solidne podstawy długoterminowej współpracy między obiema stronami w przyszłości. Uważamy, że dzięki wspólnym wysiłkom obu stron osiągniemy bardziej owocne wyniki w dziedzinieProces epitaxii półprzewodnikoweji powłoka półprzewodników w przyszłości.