VETEK świętuje ceremonię zawieszenia wiechy na nowej bazie produkcyjnej półprzewodników

Rozszerzanie możliwości zaawansowanych powłok SiC, TaC i PyC dla przemysłu półprzewodników nowej generacji

W 2025 r. firma VETEK oficjalnie obchodziła ceremonię zawieszenia wiechy na swojej nowej bazie produkcyjnej półprzewodników, co stanowi kamień milowy w strategii ekspansji firmy w zakresie zaawansowanych materiałów półprzewodnikowych i technologii powlekania.

Przedstawiciele rządu, partnerzy strategiczni, zespoły budowlane i pracownicy VETEK zebrali się, aby być świadkami tego ważnego momentu i świętować szybki postęp nowego obiektu.

Gdy wylano ostatnią sekcję betonu, ceremonia osiągnęła punkt kulminacyjny wśród oklasków i uroczystych salutów – symbolizujących nie tylko zakończenie fazy budowy, ale także początek nowego rozdziału przyszłego rozwoju firmy VETEK.

Zwiększanie wydajności produkcyjnej materiałów półprzewodnikowych

Nowa baza produkcyjna jest kluczowym projektem strategicznym firmy VETEK w odpowiedzi na szybko rosnące światowe zapotrzebowanie na półprzewodnikowe materiały procesowe i rozwiązania w zakresie powlekania wysokotemperaturowego.

Obiekt znacząco zwiększy możliwości produkcyjne i inżynieryjne firmy VETEK w zakresie:

• Powłoka CVD z węglika krzemu (SiC).

• Powłoka CVD z węglika tantalu (TaC).

• Powłoka z węgla pirolitycznego (PyC).

• Stały węglik krzemu (stały SiC)

• Komponenty grafitowe o wysokiej czystości

• Półprzewodnikowe materiały pola cieplnego

• Precyzyjnie obrobione części półprzewodnikowe

Po osiągnięciu pełnej funkcjonalności nowa baza jeszcze bardziej wzmocni zintegrowane możliwości produkcyjne firmy VETEK, obejmujące:

• Oczyszczanie grafitu

• Precyzyjna obróbka CNC

• Zaawansowana powłoka CVD

• Czyszczenie na poziomie półprzewodników

• Kontrola jakości i badanie niezawodności

• Projektowanie i optymalizacja pola cieplnego

Wspieranie kluczowych procesów półprzewodnikowych

Produkty VETEK są szeroko stosowane w krytycznych procesach produkcji półprzewodników, w tym:

• Epitaksja SiC

• Epitaksja krzemowa

• Procesy MOCVD

• Systemy wzrostu kryształów

• Aplikacje RTP i trawienie

• Procesy dyfuzji i utleniania

Firma dostarcza niestandardowe komponenty półprzewodnikowe kompatybilne z głównymi platformami przemysłowymi, w tym:

• Aixtron

• Veeko

• AMEC

• LPE

• ASM

• Zastosowane materiały (AMAT)

• Newflare

Wraz z szybkim rozwojem półprzewodników trzeciej generacji, urządzeń zasilających pojazdy elektryczne, infrastruktury sztucznej inteligencji i zaawansowanych zastosowań energetycznych, na całym świecie stale rośnie zapotrzebowanie na materiały powłokowe o wysokiej czystości i komponenty pola cieplnego.

Skoncentruj się na zaawansowanych technologiach powlekania

Firma VETEK w dalszym ciągu intensywnie inwestuje w technologie powlekania nowej generacji, zaprojektowane z myślą o ekstremalnych środowiskach produkcyjnych półprzewodników.

Powłoka CVD SiC

Produkty grafitowe powlekane CVD SiC firmy VETEK oferują:

• Doskonała stabilność termiczna

• Doskonała odporność chemiczna

• Niskie zanieczyszczenie cząstkami

• Wysoka czystość

• Długa żywotność w trudnych warunkach procesowych

Produkty te są szeroko stosowane do:

• Susceptory epitaksji

• Nośniki płytek

• Susceptory beczkowe

• Części półksiężyca

• Komponenty procesowe do epitaksji SiC/GaN

Powłoka TaC do zastosowań w bardzo wysokich temperaturach

Jako jeden z kluczowych kierunków rozwoju firmy, technologia powlekania TaC firmy VETEK została zaprojektowana z myślą o środowiskach wzrostu kryształów o bardzo wysokiej temperaturze przekraczającej 2000°C.

W porównaniu z konwencjonalnymi powłokami SiC, powłoki TaC zapewniają:

• Wyższa stabilność termiczna

• Lepsze działanie antykorozyjne

• Doskonała odporność na zanieczyszczenia grafitem

• Zwiększona stabilność środowiska wzrostu kryształów

Produkty powłokowe TaC odgrywają coraz większą rolę w:

• Wzrost monokryształów SiC

• Systemy PVT

• Zaawansowane półprzewodnikowe pola termiczne

Powłoka z węgla pirolitycznego (PyC).

VETEK dostarcza również rozwiązania w zakresie powłok PyC o dużej gęstości, obejmujące:

• Gęste powierzchnie pozbawione porów

• Doskonała odporność na szok termiczny

• Wysoka kompatybilność próżniowa

• Bardzo wysoka czystość

Powłoki PyC są szeroko stosowane w:

• Obróbka cieplna półprzewodników

• Piece do wzrostu kryształów

• Wysokotemperaturowe systemy próżniowe

Budowanie przyszłości materiałów półprzewodnikowych

Podczas ceremonii zespół wykonawczy projektu podkreślił swoje zaangażowanie w utrzymanie najwyższych standardów inżynieryjnych i jakościowych, aby zapewnić płynną realizację obiektu.

Nowa baza produkcyjna reprezentuje „szybkość VETEK” w zaawansowanej industrializacji materiałów półprzewodnikowych – demonstrując determinację firmy w przyspieszaniu innowacji technologicznych i globalnych możliwości dostaw.

Patrząc w przyszłość, VETEK będzie nadal skupiać się na:

• Zaawansowane technologie powlekania półprzewodników

• Innowacyjne materiały o wysokiej czystości

• Inżynieria pola cieplnego

• Lokalizacja półprzewodników i niezawodność łańcucha dostaw

Firma pozostaje zaangażowana we wspieranie rozwoju światowego przemysłu półprzewodników poprzez ciągłe innowacje technologiczne i wysoką jakość produkcji.

Nowy kamień milowy, nowa podróż

Ceremonia zawieszenia wiechy wyznacza nowy punkt wyjścia dla firmy VETEK.

Realizując wizję zostania wiodącym dostawcą zaawansowanych materiałów półprzewodnikowych, nowa baza produkcyjna jeszcze bardziej wzmocni przyszły rozwój firmy VETEK i wzmocni jej pozycję na światowym rynku materiałów półprzewodnikowych.

Ponieważ przemysł półprzewodników stale ewoluuje w kierunku wyższych temperatur, większych rozmiarów płytek i bardziej rygorystycznych wymagań dotyczących czystości, firma VETEK jest gotowa wraz z klientami na całym świecie przejść do następnej generacji produkcji półprzewodników.