SIC powlekany opłatek do wafla

VUchwyt waflowy SIC powlekany ETEK SIC jest zwykle używany do naprawy i obsługi płytek podczas przetwarzania półprzewodnikowego. Jest to wysoka wydajnośćprzewoźnik opłatPowszechnie stosowany w produkcji półprzewodników. Przez powlekanie warstwy węgliku krzemu (sic) na powierzchnisubstrat, Produkt może skutecznie zapobiec korozji podłoża i poprawić odporność na korozję i wytrzymałość mechaniczną nośnika opłat, zapewniając wymagania stabilności i precyzyjnych w procesie przetwarzania.

SIC powlekany opłatek do waflajest zwykle używany do naprawy i wspierania płytek podczas przetwarzania półprzewodnikowego. Jest to wysokowydajny przewoźnik płytki szeroko stosowany w produkcji półprzewodnikowej. Przez powlekanie warstwywęglik krzemowy (sic)Na powierzchni substratu produkt może skutecznie zapobiegać korozji podłoża i poprawić odporność na korozję i wytrzymałość mechanicznąPrzewoźnik opłat, zapewniający stabilność i precyzyjne wymagania procesu przetwarzania.

Krzem krzemowy (SIC) ma temperaturę topnienia około 2730 ° C i ma doskonałą przewodność cieplną około 120–180 W/m · k. Ta właściwość może szybko rozproszyć ciepło w procesach o wysokiej temperaturze i zapobiec przegrzaniu między waflem a nośnikiem. Dlatego uchwyt wafla powlekanego SIC zwykle używa grafitu powlekanego węgla krzemu (SIC) jako podłoża.

W połączeniu z wyjątkowo wysoką twardością SIC (twardość Vickersa około 2500 HV), powłoka z węglików krzemowych (SIC) osadzona przez proces CVD może tworzyć gęstą i silną powłokę ochronną, która znacznie poprawia odporność na zużycie uszywnika opalanego SIC.

SIC powlekany SIC, uchwyt waflowy SIC jest wykonany z grafitu powlekanego SIC i jest niezbędnym kluczowym elementem we współczesnych procesach epitaksji półprzewodników. Sprytnie łączy doskonałą przewodność cieplną grafitu (przewodność cieplna wynosi około 100-400 W/M · K w temperaturze pokojowej) i wytrzymałości mechanicznej, a doskonałą odporność na korozję chemiczną i stabilność termiczną węgliku krzemu (temperatura topnienia SIC wynosi około 2730 ° C), doskonale spotykają się z rygorystycznymi wymaganiami dzisiejszej produkcji półksiężycowej.

Ten posiadacz projektowania pojedynczego Wafera może dokładnie kontrolowaćProces epitaksjalnyParametry, które pomagają wytwarzać wysokiej jakości, wysokowydajne urządzenia półprzewodników. Jego unikalny projekt konstrukcyjny zapewnia, że ​​wafel jest obsługiwany z największą ostrożnością i precyzją przez cały proces, zapewniając w ten sposób doskonałą jakość warstwy epitaxialnej i poprawiając wydajność ostatniego produktu półprzewodnikowego.

Jako wiodący ChinSic powlekanyProducent i lider producentów wafli, Vetek Semiconductor może świadczyć niestandardowe produkty i usługi techniczne zgodnie z wymogami sprzętu i procesów.Mamy szczerze mamy być twoim długoterminowym partnerem w Chinach.

Dane SEM struktury krystalicznej filmu CVD SIC

Podstawowe właściwości fizyczne powłoki CVD SIC

VETEK SEMICONDUCTOR SIC Powlekane wafle Holder Productions Shops ：