Susceptor grafitowy pokryty SiC dla ASM

Ogólne informacje o produkcie

Warunki handlowe dotyczące produktu

✔ Aplikacja: Podłoże grafitowe pokryte Veteksemicon SiC jest kluczowym materiałem eksploatacyjnym urządzeń epitaksjalnych serii ASM. Bezpośrednio podtrzymuje płytkę i zapewnia jednolite i stabilne pole termiczne podczas epitaksji w wysokiej temperaturze, co czyni go podstawowym elementem zapewniającym wysokiej jakości wzrost zaawansowanych materiałów półprzewodnikowych, takich jak GaN i SiC.

✔ Usługi, które można świadczyć: analiza scenariuszy zastosowań u klientów, dopasowywanie materiałów, rozwiązywanie problemów technicznych. 

✔ Profil firmy Veteksemicon posiada 2 laboratoria, zespół ekspertów z 20-letnim doświadczeniem materiałowym, z możliwościami badawczo-rozwojowymi oraz produkcją, testowaniem i weryfikacją.

Parametry techniczne

Susceptor grafitowy pokryty Veteksemicon SiC zapewnia zalety rdzenia ASM

1. Ekstremalna czystość i niski wskaźnik defektów

Stosując wysokiej czystości, drobnoziarniste, specjalne podłoże grafitowe, w połączeniu z naszym ściśle kontrolowanym procesem powlekania chemicznego osadzania z fazy gazowej (CVD), zapewniamy, że powłoka jest gęsta, wolna od porów i zanieczyszczeń. To znacznie zmniejsza ryzyko zanieczyszczenia cząstkami stałymi podczas procesu epitaksjalnego, zapewniając czyste środowisko podłoża dla wzrostu wysokiej jakości warstw epitaksjalnych.

2. Doskonała odporność na korozję i odporność na zużycie

Pirolityczna powłoka z węglika krzemu charakteryzuje się wyjątkowo wysoką twardością i obojętnością chemiczną, skutecznie przeciwstawiając się erozji źródeł krzemu (takich jak SiH4, SiHCl3), źródeł węgla (takich jak C3H8) i gazów trawiących (takich jak HCl, H2) w wysokich temperaturach. Wydłuża to znacząco cykl konserwacji bazy oraz skraca przestoje maszyny spowodowane wymianą podzespołów.

3. Doskonała równomierność i stabilność termiczna

Zoptymalizowaliśmy rozkład pola termicznego w zakresie temperatur pracy poprzez precyzyjne projektowanie struktury podłoża i kontrolę grubości powłoki. Przekłada się to bezpośrednio na doskonałą jednorodność grubości i rezystywności płytki epitaksjalnej, przyczyniając się do poprawy wydajności wytwarzania chipów.

4. Doskonała siła przyczepności powłoki

Unikalna technologia wstępnej obróbki powierzchni i powlekania gradientowego umożliwiają powłoce z węglika krzemu utworzenie mocnej warstwy wiążącej z podłożem grafitowym, skutecznie zapobiegając problemom złuszczania się, łuszczenia lub pękania powłoki, które mogą wystąpić podczas długotrwałych cykli termicznych.

5. Precyzyjny rozmiar i replikacja strukturalna

Posiadamy dojrzałe możliwości obróbki i testowania CNC, umożliwiające nam całkowite odtworzenie złożonej geometrii, wymiarów wnęki i interfejsów montażowych oryginalnej podstawy, zapewniając idealne dopasowanie i funkcjonalność plug-and-play z platformą klienta.

6. Zatwierdzenie weryfikacji łańcucha ekologicznego

Susceptor grafitowy pokryty powłoką Veteksemicon SiC do weryfikacji łańcucha ekologicznego ASM obejmuje surowce do produkcji, przeszedł międzynarodowy standard certyfikacji i posiada szereg opatentowanych technologii zapewniających niezawodność i zrównoważony rozwój w półprzewodnikach i nowych dziedzinach energii.

Aby uzyskać szczegółowe specyfikacje techniczne, białe księgi lub ustalenia dotyczące przykładowych testów, skontaktuj się z naszym zespołem pomocy technicznej, aby dowiedzieć się, w jaki sposób Veteksemicon może zwiększyć wydajność Twojego procesu.

Główne obszary zastosowań

Sklep z produktami Veteksemicon