Technologia natryskiwania cieplnego półprzewodników

Technologia natryskiwania termicznego półprzewodnika jest zaawansowanym procesem, który rozpyla materiały w stanie stopionego lub półmoltowego na powierzchnię podłoża w celu utworzenia powłoki. Technologia ta jest szeroko stosowana w dziedzinie produkcji półprzewodników, stosowana głównie do tworzenia powłok o określonych funkcjach na powierzchni podłoża, takich jak przewodność, izolacja, odporność na korozję i oporność na utlenianie. Główne zalety technologii natryskiwania termicznego obejmują wysoką wydajność, kontrolowaną grubość powłoki i dobrą przyczepność powłoki, co czyni ją szczególnie ważną w procesie produkcji półprzewodników, który wymaga wysokiej precyzji i niezawodności.

Zastosowanie technologii rozpylania termicznego w półprzewodnikach

Trawienie wiązką plazmy (trawienie na sucho)

Zwykle odnosi się do stosowania wyładowania blasku w celu wygenerowania aktywnych cząstek w osoczu zawierających naładowane cząstki, takie jak plazma i elektrony oraz wysoce chemicznie aktywne atomy i cząsteczki neutralne i wolne rodniki, które rozpraszają się do części, która ma być wytrawiona, reagują z trawionym materiałem, tworząc zmienne produkty i są usuwane, kończąc technologię trawienia transferu wzorów. Jest to niezastąpiony proces realizacji przenoszenia wysokiej wierności drobnych wzorów z szablonów fotolitograficznych na płytki w produkcji bardzo dużych obwodów zintegrowanych.

Wygenerowana zostanie duża liczba aktywnych wolnych rodników, takich jak CL i F. Kiedy wytrawiają urządzenia półprzewodnikowe, korodują wewnętrzne powierzchnie innych części sprzętu, w tym stopów aluminium i ceramicznych części strukturalnych. Ta silna erozja wytwarza dużą liczbę cząstek, która nie tylko wymaga częstego utrzymania sprzętu produkcyjnego, ale także powoduje awarię komory procesu trawienia i uszkodzenie urządzenia w ciężkich przypadkach.

Y2O3 jest materiałem o bardzo stabilnych właściwościach chemicznych i termicznych. Jego temperatura topnienia jest znacznie powyżej 2400 ℃. Może pozostać stabilny w środowisku silnie korozyjnym. Jego odporność na bombardowanie plazmą może znacznie wydłużyć żywotność komponentów i zmniejszyć ilość cząstek w komorze trawienia.

Rozwiązaniem głównego nurtu jest rozpylanie powłoki Y2O3 o wysokiej czystości w celu ochrony komory trawienia i innych kluczowych elementów.