Menu internetowe

Wyszukiwarka produktów

Język

Produkty
CMP Polerowanie zawiesiny
  • CMP Polerowanie zawiesinyCMP Polerowanie zawiesiny

CMP Polerowanie zawiesiny

CMP zawiesia polerowania (chemiczne zawiesinę mechaniczne) to materiał o wysokiej wydajności stosowany w produkcji półprzewodnikowej i precyzyjnym przetwarzaniu materiału. Jego podstawową funkcją jest osiągnięcie dobrej płaskości i polerowania powierzchni materiału pod synergicznym efektem korozji chemicznej i szlifowania mechanicznego w celu spełnienia wymagań dotyczących płciarstwa i jakości powierzchni na poziomie nano. Czekamy na dalsze konsultacje.
Wyślij zapytanie
Opis produktu

Zawiesina polerowania CMP Vetesemicon jest wykorzystywana głównie jako ścierna ścierna w chemicznym zawiesinie mechanicznym CMP do planaryzacji materiałów półprzewodników. Ma następujące zalety:

● Średnica i stopień powiązania cząstek cząstek można swobodnie kontrolować;
● Cząstki są monodyspersyjne, a rozkład wielkości cząstek jest jednolity;
● System dyspersji jest stabilny;
● Masowa skala produkcji jest duża, a różnica między partiami jest niewielka;
● Nie jest łatwo się kondensować i osiedlić.


Wskaźniki wydajności dla produktów z serii ultra wysokiej czystości

Parametr
 Jednostka
 Wskaźniki wydajności dla produktów z serii ultra wysokiej czystości
Biskup
 Biskup2
 Biskup3
 Biskup4
 Biskup-5
 Biskup6
 Biskup7
Średnia wielkość cząstek krzemionki
 nm
 35 ± 5
 45 ± 5
 65 ± 5
 75 ± 5
 85 ± 5
 100 ± 5
 120 ± 5
Rozkład wielkości nanocząstek (PDI)
 1 <0,15
 <0,15
 <0,15
 <0,15
 <0,15
 <0,15
 <0,15
Rozwiązanie Ph
 1 7.2-7.4
 7.2-7.4
 7.2-7.4
 7.2-7.4
 7.2-7.4
 7.2-7.4
 7.2-7.4
Solidna zawartość
 % 20,5 ± 0,5
 20,5 ± 0,5
 20,5 ± 0,5
 20,5 ± 0,5
 20,5 ± 0,5
 20,5 ± 0,5
 20,5 ± 0,5
Wygląd
 --
 Jasnoniebieski
 Niebieski
 Biały
 Off-biały
 Off-biały
 Off-biały
 Off-biały
Morfologia cząstek x
 X ： S-feryczne ； B- zakrzywione ； p-orzechowe ； T- Bulwiaste ； C-łańcuchowe (stan zagregowany)
Stabilizowanie jonów
 Aminy organiczne / nieorganiczne
Surowiec Y
 I ： M-tmos ； e-you ； me-tamos+teos ； em-ezos+tmos
Zawartość zanieczyszczenia metali
 ≤ 300ppb


CMP Polishing Dlurry Applications ：


● Zintegrowane materiały obwodu CMP

● Zintegrowane materiały Poly-Si CMP

● Półprzewodnikowy pojedynczy kryształowy krzem materiały CMP

● Półprzewodniki krzemowe materiały węglika CMP

● Zintegrowane materiały STI CMP

● Zintegrowane metalowe i metalowe materiały warstw bariery CMP


Gorące Tagi: CMP Polerowanie zawiesiny
Powiązana kategoria
Wyślij zapytanie
Informacje kontaktowe
W przypadku pytań dotyczących powłoki z węglika krzemu, powłoki z węglika tantalu, specjalnego grafitu lub cennika, zostaw nam swój e-mail, a my skontaktujemy się z tobą w ciągu 24 godzin.
Produkty powiązane
MAX Faza nanopowder
MAX Faza nanopowder Zobacz więcej >>
Technologia natryskiwania cieplnego półprzewodników
Technologia natryskiwania cieplnego półprzewodników Zobacz więcej >>
Wafel obsługujący ramię robotyczne
Wafel obsługujący ramię robotyczne Zobacz więcej >>
Technologia rozpylania termicznego kondensator MLCC
Technologia rozpylania termicznego kondensator MLCC Zobacz więcej >>
Fizyczne osadzanie pary
Fizyczne osadzanie pary Zobacz więcej >>
Zalecenia dotyczące wiadomości
Porowaty węglik tantalowy: nowa generacja materiałów do wzrostu kryształu SIC
Porowaty węglik tantalowy: nowa generacja materiałów do wzrostu kryształu SICZobacz więcej >>
Diament - przyszła gwiazda półprzewodników
Diament - przyszła gwiazda półprzewodnikówZobacz więcej >>
Jakie urządzenia pomiarowe są w fabryce Fab? - Vetek Semiconductor
Jakie urządzenia pomiarowe są w fabryce Fab? - Vetek SemiconductorZobacz więcej >>
Co to jest powłoka TAC? - Vetek Semiconductor
Co to jest powłoka TAC? - Vetek SemiconductorZobacz więcej >>
W jaki sposób porowaty grafit poprawia wzrost kryształu węglika krzemu?
W jaki sposób porowaty grafit poprawia wzrost kryształu węglika krzemu?Zobacz więcej >>
Jakie jest konkretne zastosowanie części powlekanych TAC w polu półprzewodnikowym?
Jakie jest konkretne zastosowanie części powlekanych TAC w polu półprzewodnikowym?Zobacz więcej >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept