Półprzewodnik ceramiczna

Półprzewodnikowa dysza ceramiczna odgrywa ważną rolę wProces HDP-CVD, służące do precyzyjnej kontroli i zapewnienia przepływu gazuwysokiej jakości osadzanie folii. Ceramiczny spray dyszy jest precyzyjnie zaprojektowany w celu zapewnienia spójnych i kontrolowanych prędkości przepływu gazu, minimalizując możliwe turbulencje, gdy gaz wchodzi do komory reakcji.

Dane techniczne:

1. Skład materiałowy:

VETEK półprzewodnik ceramiczny piasek piaskowy jest zwykle wykonany z ceramiki półprzewodnikowej, takich jak tlenek glinu (AL2O3),węglik krzemowy (sic)lub tlenek cyrkonu (Zro2), materiały te mają doskonałe właściwości:

    • wysoka stabilność termiczna (wytrzymuje temperatury powyżej 1000℃)

    • odporność na korozję wywołaną przez reaktywne gazy stosowane wProcesy CVD(takie jak Silane, amoniak)

    • Odporność na ciągłą ekspozycję w osoczu.

2. Projekt konstrukcyjny:

    • Rozmiar otworu: Owód półprzewodnikowy dyszy ceramicznej jest naukowo zaprojektowany, aby umożliwić precyzyjną kontrolę przepływu gazu, co z kolei wpływa na jednolitość i grubość folii.

    • Kąty i geometrie: dokładnie zaprojektowane w celu zapewnienia jednolitego rozkładu gazu w podłożu, minimalizując wady w osadzonej warstwie.

W przemyśle półprzewodników, dysze ceramiczne Semiconductor odgrywają kluczową rolę przede wszystkim w procesie HDP-CVD. Stosowane są także do osadzania cienkich warstw do produkcji mikroelektroniki, zapewniając wysokiej jakości powłoki powierzchniowe, które są jednolite i wolne od zanieczyszczeń.

Sklepy z dyszami ceramicznymi VeTeK Semiconductor: