Produkty

Vetek Semiconductor to chiński profesjonalny producent podatników ALD. Vetek wspólnie opracowywał i wyprodukował podstawy planetarne ALD powlekane SIC z producentami systemów ALD w celu spełnienia wysokich wymagań procesu ALD. Witamy swoją konsultację.

Sufit pokryty CVD SIC VEETK Semiconductor ma doskonałe właściwości, takie jak oporność w wysokiej temperaturze, odporność na korozję, wysoka twardość i niski współczynnik rozszerzania cieplnego, co czyni go idealnym wyborem materiału w produkcji półprzewodników. Jako wiodący w Chinach producent i dostawca sufitu CVD SIC, Vetek Semiconductor oczekuje na konsultację.

VETEK Semiconductor jest profesjonalnym producentem podatności MOCVD LED EPI w Chinach. Nasza podatnik EPI LED MOCVD jest zaprojektowany do wymagających zastosowań sprzętu epitaksjalnego. Jego wysoka przewodność cieplna, stabilność chemiczna i trwałość są kluczowymi czynnikami w celu zapewnienia stabilnego procesu wzrostu epitaxialnego i produkcji folii półprzewodnikowej.

Wrażarka ALD powlekania SIC jest komponentem podporowym stosowanym specjalnie w procesie osadzania warstwy atomowej (ALD). Odgrywa kluczową rolę w sprzęcie ALD, zapewniając jednolitość i precyzję procesu osadzania. Uważamy, że nasze produkty podatników planetarnych ALD mogą przynieść wysokiej jakości rozwiązania produktowe.

Rurka powlekania TAC VEEK Semiconductor jest kluczowym składnikiem udanego wzrostu pojedynczych kryształów węglików krzemu. Dzięki oporności na wysoką temperaturę, bezwładności chemicznej i doskonałej wydajności zapewniająca produkcję wysokiej jakości kryształów z spójnymi wynikami. Zaufaj naszym innowacyjnym rozwiązaniom, aby ulepszyć proces wzrostu kryształów PVT i osiągnąć doskonałe wyniki. Spotkanie nas do zapytania.

VETEK Semiconductor oferuje porowaty ceramiczny chuck szeroko stosowany w technologii przetwarzania wafli, transferu i innych linkach, odpowiednich do wiązania, scenariusza, łatki, polerowania i innych linków, przetwarzania laserowego. Nasz porowaty ceramiczny chuck ma ultra-odtłuszczoną adsorpcję próżniową, wysoką płaskość i wysoką czystość zaspokajają potrzeby większości branż półprzewodników. Przygotowanie do badania nas.