Jaka jest różnica między CVD TAC a spiekanym TAC?

1. Co to jest węglika Tantalum?

Węgiel tantalu (TAC) jest binarnym związkiem złożonym z tantalu i węgla z wzorem empirycznym tacx, gdzie x zwykle zmienia się w zakresie 0,4 do 1. Są bardzo twarde, kruche metalowe przewodzące materiały ceramiczne. Są to brązowo-szary proszki, zwykle spiekane. Jako ważny metalowy materiał ceramiczny, węglik tantalu jest używany komercyjnie do narzędzi tnących i czasami jest dodawany do stopów węglików wolframowych.

Ryc. 1. Surowce z węglikiem

Ceramika z węglika Tantalum jest ceramiką zawierającą siedem krystalicznych faz węglików tantalowych. Formuła chemiczna to TAC, skoncentrowana na twarzy sieć sześcienna.

Rysunek 2.Tantalum Carbide - Wikipedia

Gęstość teoretyczna wynosi 1,44, temperatura topnienia wynosi 3730-3830 ℃, współczynnik rozszerzalności cieplnej wynosi 8,3 × 10-6, moduł sprężystości wynosi 291 gpa, przewodność cieplna wynosi 0,22J/cm · s · s · s, a szczytowy punkt topnienia topnienia tantalum Carbidea wynosi około 3880 ℃, zależnie od czystości i pomiaru. Ta wartość jest najwyższa wśród związków binarnych.

Rysunek 3.Chemiczne odkładanie pary węgliku tantalu w TABR5 & ndash

2. Jak silny jest węglika Tantalum?

Testując twardość Vickersa, wytrzymałość złamania i gęstość względnej serii próbek, można ustalić, że TAC ma najlepsze właściwości mechaniczne przy 5,5 gpa i 1300 ℃. Względna gęstość, wytrzymałość pęknięć i twardość Vickersa TAC wynoszą odpowiednio 97,7%, 7,4MPAM1/2 i 21,0GA.

Węglenie Tantalum nazywa się również ceramiką węgla tantalu, która jest rodzajem materiału ceramicznego w szerokim znaczeniu;Metody przygotowania węgliku tantalum obejmująCVDMetoda, metoda spiekaniaitp. Obecnie metoda CVD jest częściej stosowana w półprzewodnikach, o wysokiej czystości i wysokich kosztach.

3. Porównanie spiekanego węgla tantalu i węglika TantalumCVD

W technologii przetwarzania półprzewodników spiekany węglika tantalu i chemiczne odkładanie pary (CVD) Tantalum Carbide to dwie powszechne metody przygotowywania węgliku tantalu, które mają znaczące różnice w procesie przygotowania, mikrostruktury, wydajności i zastosowaniu.

3.1 Proces przygotowania

Spiekany węglik tantalu: proszek z węglika tantalu jest spiekany pod wysoką temperaturą i wysokim ciśnieniem, aby utworzyć kształt. Proces ten obejmuje zagęszczenie proszku, wzrost ziarna i usuwanie zanieczyszczeń.

Karen cvd Tantalum: Prekursor gazowy tantalu węglika jest używany do reakcji chemicznej na powierzchni podgrzewanego podłoża, a warstwa z węglika tantalu jest osadzona warstwą. Proces CVD ma dobrą zdolność kontroli grubości folii i jednorodność składu.

3.2 Mikrostruktura

Spiekanie węgliku tantalu: ogólnie jest to polikrystaliczna struktura o dużych rozmiarach ziarna i porach. Na jego mikrostrukturę wpływają czynniki takie jak temperatura spiekania, ciśnienie i właściwości proszkowe.

Karen cvd tantalum: jest to zwykle gęsta folia polikrystaliczna o niewielkich rozmiarach ziarna i może osiągnąć wysoce zorientowany wzrost. Na mikrostrukturę filmu wpływają czynniki, takie jak temperatura osadzania, ciśnienie gazu i skład fazy gazowej.

3.3 Różnice w wydajności

Rycina 4. Różnice wydajności między spiekanym TAC i CVD TAC

3.4 Zastosowania

Spiekany gabid Tantalum: Ze względu na wysoką wytrzymałość, wysoką twardość i oporność w wysokiej temperaturze jest szeroko stosowana w narzędziach tnącach, częściach odpornych na zużycie, materiałach konstrukcyjnych o wysokiej temperaturze i innych dziedzinach. Na przykład spiekany węgiel tantalu może być używany do produkcji narzędzi tnących, takich jak ćwiczenia i frezarki w celu poprawy wydajności przetwarzania i jakości powierzchni części.

CVD Tantalum Carbide: Ze względu na jego cienkie właściwości, dobrą przyczepność i jednolitość, jest szeroko stosowany w urządzeniach elektronicznych, materiałach powłokowych, katalizatorach i innych dziedzinach. Na przykład węglika CVD Tantalum może być stosowane jako wzajemne połączenia dla obwodów zintegrowanych, powłok odpornych na zużycie i nośników katalizatora.

-------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------

Jako producent powlekania, dostawcy i fabryki tantalu, Vetek Semiconductor jest wiodącym producentem materiałów powlekania z węglika Tantalum dla przemysłu półprzewodnikowego.

Nasze główne produkty obejmująCVD Tantalum Carbide Paked Carte, spiekane części powlekane TAC do procesów wzrostu kryształów SIC lub półprzewodników. Naszymi głównymi produktami są pierścienie przewodników powlekanych z węglikami tantalu, przewodniki powlekane TAC, Półksiężyce powlekane półksiężycami TAC, planetyczne dyski pokrytą węglika tantalu (AIXTRON G10), tyłki powlekane TAC; Pierścienie pokryte TAC; Porowaty grafit pokryty TAC; Podatniki grafitowe powlekane z węglikiem tantalu; Połączone przewodniki TAC; Płytki pokrytej węglerem tantalu; Podatniki opłat pokryte TAC; Kapiaty grafitowe pokryte TAC; Bloki pokryte TAC itp., Z czystością mniej niż 5ppm, aby spełnić wymagania klientów.

Rysunek 5. Produkty powlekania TAC VEETK Semiconductor

Vetek Semiconductor jest zaangażowany w zostanie innowatorem w branży powlekania węglików Tantalum poprzez ciągłe badania i rozwój technologii iteracyjnych. 

Jeśli jesteś zainteresowany produktami TAC, skontaktuj się z nami bezpośrednio.

Mob: +86-180 6922 0752

WhatsApp: +86 180 6922 0752

E -mail: anny@veteksemi.com