Głowica prysznicowa z litego SiC i gazu

Solid Sic Gas Presh Head

Vetek Semiconductor to zintegrowana firma zajmująca się badaniami, produkcją i sprzedażą. VETEK Semiconductor od wielu lat pracuje nad epitaksją półprzewodnikową, trawieniem i innymi produktami związanymi z procesami, zwłaszcza powłoką CVD SIC, powlekaniem CVD TAC i CVD SIC SIC to nasze flagowe produkty.

Głowice prysznicowe VeTek Semiconductor Solid SiC Gas są powszechnie używane do równomiernego rozprowadzania gazów prekursorowych na powierzchni podłoża podczas procesów CVD półprzewodników. Stosowanie materiału CVD-SiC do głowic prysznicowych ma kilka zalet. Jego wysoka przewodność cieplna pomaga rozproszyć ciepło powstające w procesie CVD, zapewniając równomierny rozkład temperatury na podłożu. Dodatkowo stabilność chemiczna głowicy prysznicowej CVD pozwala jej wytrzymać gazy korozyjne i trudne warunki powszechnie spotykane w procesach CVD. 

Projektowanie głowic prysznicowych CVD SIC można dostosować do określonych systemów CVD i wymagań procesowych. Zazwyczaj składają się one z płyty lub komponentu w kształcie dysku z serią precyzyjnych otworów lub szczelin. Wzór otworów i geometria są starannie zaprojektowane w celu zapewnienia jednolitego rozkładu gazu i prędkości przepływu na powierzchni podłoża.

Fizyczne właściwości stałego sic