SIC Prysznic

Vetek Semiconductor zapewnia zaawansowaną głowę prysznicową SIC do przemysłu półprzewodnikowego. Materiały z węglików krzemowych mają unikalną kombinację doskonałych właściwości termicznych, elektrycznych i chemicznych, co czyni je idealnymi do zastosowań w przemyśle półprzewodników, w których wymagane są materiały o wysokiej wydajności. Vetek Semiconductor od dawna gromadził doświadczenie w technologii CVD Solid SIC. Rewolucyjna technologia VETEK Semiconductor umożliwia produkcję SIC Shower Head, ultra-wysokiej czystości materiału węglika krzemowego stworzonego przez proces chemicznego osadzania pary.

Głowica prysznicowa SIC jest kluczowym elementem w produkcji półprzewodników, specjalnie zaprojektowanej dla systemów MOCVD, epitaksji silikonowej iSicProcesy epitaxy. Wykonane z solidnegostały węglik krzemowy (sic), komponent ten może wytrzymać ekstremalne warunki przetwarzania plazmy i zastosowań o wysokiej temperaturze.

Węglik krzemowy (sic)jest znany z wysokiej przewodności cieplnej, odporności na korozję chemiczną i wyjątkową wytrzymałość mechaniczną, co czyni go idealnym materiałem do masowych elementów SIC, takich jak SIC Prysznic. Gazowa głowica prysznicowa zapewnia równomierne dystrybucję gazów procesowych nad powierzchnią opłat, co jest niezbędne do wytwarzania wysokiej jakości warstw epitaksjalnych. Pierścienie ostrości i pierścienie krawędzi, często wytwarzane z CVD-SIC, utrzymują jednolity rozkład plazmy i chronią komorę przed zanieczyszczeniem, zwiększając wydajność i wydajność wzrostu epitaksjalnego.

Dzięki precyzyjnemu kontroli przepływu gazu i znakomitym właściwościom materiału SIC prysznic jest kluczowym elementem nowoczesnego przetwarzania półprzewodnikowego, obsługując zaawansowane zastosowania w epitaksji silikonowej i epitaksji SIC.

Vetek Semiconductor oferuje niską opaskę na półprzewodnika krzemowego z węglikiem krzemowym. Mamy możliwość niestandardowego inżyniera i zaopatrzeniaZaawansowane materiały ceramiczneWykorzystanie różnych unikalnych możliwości.