Rura pieca kwarcowego do pieca dyfuzyjnego

1. Kluczowe cechy i zalety

• Odwodniony topiony kwarc o ultra wysokiej czystości (SiO₂ ≥ 99,999%) z zanieczyszczeniami metalowymi kontrolowanymi na poziomie ppb i wyjątkowo niską zawartością grup hydroksylowych

• Długotrwała temperatura pracy do 1100°C; krótkotrwała odporność szczytowa do 1200°C

• Doskonała odporność na szok termiczny po pełnym wyżarzaniu odprężającym – odporna na pękanie pod wpływem szybkich zmian temperatury

• Wyjątkowa obojętność chemiczna wobec gazów procesowych utleniających, redukujących i zawierających halogen; nadaje się do stosowania w atmosferze plazmowej i korozyjnej

• Bardzo niskie odgazowanie próżniowe; gładka ściana wewnętrzna minimalizuje gromadzenie się produktów ubocznych i wspiera powtarzalność procesu

• Jednoczęściowe formowanie o jednakowej grubości ścianki, dużej współosiowości i precyzyjnie wykończonych końcach zapewniających niezawodne uszczelnienie

• Konfigurowalne konstrukcje: rury proste, rury redukcyjne, rury kołnierzowe, dłuższe długości i specjalne konfiguracje końcówek dla pieców pionowych lub poziomych

2. Typowe zastosowania

Rury pieca kwarcowego VeTek są szeroko stosowane jako rdzeń komory reakcyjnej w:

• Piece do utleniania termicznego (utlenianie na sucho/mokro)

• Piece dyfuzyjne do wprowadzania domieszek (B, P, As itp.)

• Systemy LPCVD do osadzania cienkowarstwowego

• Wyżarzanie próżniowe i inne procesy obróbki cieplnej w wysokiej temperaturze

• Kompatybilny z 4-calowymi, 6-calowymi, 8-calowymi i 12-calowymi platformami płytek (podłoża Si, SiC, GaN, szafirowe)

Obsługują logikę, pamięć, urządzenia zasilające, MCU, diody LED, MEMS i linie produkcyjne półprzewodników o szerokiej przerwie energetycznej, które wymagają stabilnej jednorodności temperatury, kontroli przepływu gazu i wyjątkowo czystych środowisk procesowych.

3. Kluczowe parametry techniczne

• Materiał: Odwodniony topiony kwarc półprzewodnikowy (SiO₂ ≥ 99,999%), niska zawartość grup hydroksylowych i niska zawartość zanieczyszczeń metalicznych

• Kompatybilność z płytkami: 4/6/8/12 cali

• Długotrwała temperatura pracy: -20°C do 1100°C; krótkotrwały szczyt do 1200°C

• Proces: Jednoczęściowe formowanie termiczne, homogenizacja ścian, obróbka końcowa, wyżarzanie odprężające, test szczelności helem, ultraczyste czyszczenie

• Dostępne konstrukcje: rura prosta, rura redukcyjna, rura kołnierzowa, rura wydłużona / rura o niestandardowej długości, konfiguracje końcówek specjalnych

• Personalizacja: średnica wewnętrzna/zewnętrzna, długość, grubość ścianki, specyfikacje kołnierzy i specjalne geometrie według rysunków klienta

4. Dlaczego warto wybrać rury do pieca kwarcowego VeTek?

Jako profesjonalny producent półprzewodnikowych elementów kwarcowych, VeTek Semiconductor oferuje:

• Rury do pieca kwarcowego o wysokiej czystości, przeznaczone do urządzeń utleniających, dyfuzyjnych, LPCVD i wyżarzania

• Ścisła kontrola czystości, dokładność wymiarowa i czystość odpowiednia do produkcji w pomieszczeniach czystych klasy 10/klasy 100

• Pełna personalizacja i projekty kompatybilne z OEM dla pionowych i poziomych pieców rurowych

• Uzupełniające półprzewodnikowe produkty kwarcowe, w tym łódeczki waflowe, tygle, wykładziny i inne elementy procesu

Nasze rury do pieca kwarcowego pomagają utrzymać stabilne warunki termiczne i przepływu gazu, minimalizują zanieczyszczenie cząstkami stałymi i metalami oraz wydłużają żywotność w przypadku ciągłych cykli w wysokiej temperaturze, co zapewnia wyższą wydajność i niższe koszty posiadania w obróbce termicznej półprzewodników.