Produkty

Jako zaawansowany producent produktów i fabryka części uszczelniającej SIC w Chinach. Część uszczelniająca EETEK SEMICONDUCTO SIC to wysokowydajny komponent uszczelniający szeroko stosowany w przetwarzaniu półprzewodnikowym oraz w innych ekstremalnych procesach wysokiej temperatury i wysokiego ciśnienia. Witamy w dalszych konsultacjach.

Vetek Semiconductor to profesjonalny producent próżni i fabryki próżni glinu w Chuck w Chinach. Alumina ceramiczna próżniowa chuck wykorzystuje ceramikę tlenku glinu o dużej czystości z doskonałą odpornością na ciepło, odporność chemiczną i wytrzymałość mechaniczną. Służy głównie do naprawy i obsługi płytek i substratów. Jest to sprzęt o wysokiej wydajności do przetwarzania półprzewodników. Witaj swoje dalsze zapytania.

Jako profesjonalny twardy złożony z włókna węglowego producent i dostawca produktów w Chinach, Vetek półprzewodnikowy Felt z włókna węglowego z kompozytem jest materiałem wysokiej jakości zaprojektowanym do zastosowań o wysokiej temperaturze, zapewniającą doskonałą odporność na ciepło i wydajność izolacji. Produkt ten jest szeroko stosowany w palecie PECVD z kompozytem węglowym w celu zapewnienia stabilności i niezawodności w ekstremalnych warunkach. Witamy w dalszych konsultacjach.

Jako profesjonalny innowator i lider produktów pierścieniowych powlekanych węglika Tantalum w Chinach, pierścień powlekany węglika z półprzewodnikiem VETEK odgrywa niezastąpioną rolę we wzroście kryształów SIC z doskonałą opornością na wysoką temperaturę, odpornością na zużycie i doskonałą przewodnością cieplną. Witamy w dalszych konsultacjach.

Jako wiodący producent i dostawca produktów Chucka z węglików krzemionowych w Chinach, krzemowa płytka węglika Veteka Semiconductor, odgrywa niezastąpioną rolę w procesie wzrostu epitaxialnego z doskonałą opornością na wysoką temperaturę, odpornością na korozję chemiczną i odpornością na wstrząsy cieplne. Witamy w dalszych konsultacjach.

Głowica prysznicowa z węglików krzemowych ma doskonałą tolerancję w wysokiej temperaturze, stabilność chemiczną, przewodność cieplną i dobrą wydajność dystrybucji gazu, które mogą osiągnąć jednolity rozkład gazu i poprawić jakość filmu. Dlatego zwykle stosuje się go w procesach o wysokiej temperaturze, takich jak chemiczne osadzanie pary (CVD) lub fizyczne procesy osadzania pary (PVD). Witamy wobec nas dalszych konsultacji, Vetek Semiconductor.