Technologia MOCVD

SEC COMED MOCVD VEEKESEMICON SIC jest urządzeniem o doskonałym procesie, trwałości i niezawodności. Mogą wytrzymać środowiska o wysokiej temperaturze i chemiczne, utrzymywać stabilną wydajność i długą żywotność, zmniejszając w ten sposób częstotliwość wymiany i konserwacji oraz poprawiając wydajność produkcji. Nasza podatnik epitaksjalny MOCVD jest znany ze swojej wysokiej gęstości, doskonałej płaskości i doskonałej kontroli cieplnej, co czyni go preferowanym sprzętem w trudnych środowiskach produkcyjnych. Nie mogę się doczekać współpracy z Tobą. Spełnij się, aby skonsultować się w dowolnym momencie.

Susceptor epitaksjalny GaN na bazie krzemu jest głównym komponentem wymaganym do produkcji epitaksjalnej GaN. Susceptor epitaksjalny GaN na bazie krzemu Veteksemicon został specjalnie zaprojektowany do systemów reaktorów epitaksjalnych GaN na bazie krzemu i ma takie zalety, jak wysoka czystość, doskonała odporność na wysokie temperatury i odporność na korozję. Zapraszamy do dalszych konsultacji.