Usługa czyszczenia części grafitowych z powłoką CVD SiC

1. Wyzwania, przed którymi możesz stanąć

• Warstwa AlN trudna do usunięcia:Czyszczenie termiczne w temperaturze 1300°C nadal nie jest w stanie skutecznie wytrawić pozostałości warstwy AlN.

• Powtarzający się efekt pamięci:Efekt pamięci powierzchniowej powoduje niestabilny przepływ gazu w reaktorze, co wpływa na spójność procesu.

• Cykl czyszczenia ImpacPrzepustowość:Zwykle co 16 cykli procesowych (4–5 susceptorów) konieczne jest czyszczenie zewnętrzne.

• Obawa o uszkodzenie kosztownej powłoki:Brak doświadczenia w zakresie czyszczenia chemicznego sprawia, że ​​operatorzy niechętnie podejmują próby czyszczenia agresywnego.

2. Nasze rozwiązanie – przeznaczone do procesów GaN / AlN / AlGaN

• Profesjonalne czyszczenie:Niestandardowy proces opracowany specjalnie dla części grafitowych powlekanych CVD SiC. Klient nie wymaga od klienta żadnego wzoru chemicznego.

• Bezpieczeństwo powłoki:Ściśle chroni powłokę CVD SiC o grubości 100 µm. Absolutna zerowa utrata grubości po czyszczeniu.

• Sprawdzalne wyniki:Pełny certyfikat analizy (COA) obejmujący pięć podstawowych wymiarów. Dane gotowe do archiwizacji i audytu jakości.

3. Pięć podstawowych kryteriów akceptacji

Ściśle dostosowane do krytycznych wymagań użytkowników epitaksji półprzewodnikowej:

1. Zero strat powłoki– Grubość powłoki SiC nigdy nie ulega zmniejszeniu po czyszczeniu (weryfikacja porównania grubości przed i po).

2. Brak deformacji powierzchni– Płaskość i dokładność geometryczna są ściśle sprawdzane, aby zapewnić brak deformacji fizycznych.

3. Wyeliminuj efekt pamięci– Analiza XPS pod kątem pozostałości Al/Ga potwierdza dokładne usunięcie źródeł efektu pamięci.

4. Zero pozostałości metalu– Testy ICP-MS dla Fe, Cu, Ni i innych metali weryfikują zero pozostałości zanieczyszczeń metalicznych.

5. Brak nadmiaru cząstek– Test cząstek QIII i weryfikacja czystości zapobiegają niestabilności przepływu gazu spowodowanej resztkowymi cząstkami.

4. Kontrola dostawy i raport COA

Każda partia jest dostarczana z pełnymi danymi weryfikacyjnymi w pięciu podstawowych wymiarach:

5. Obowiązujące produkty i tło procesu

Parametry produktu

Proces obsługi

1. Zapytanie– Wyślij zdjęcia części / model / ilość do oceny.

2. Cytat– Ocena techniczna i szczegółowa propozycja czyszczenia wraz z wyceną.

3. Wysyłka– Wyślij części do nas lub zorganizuj usługę odbioru.

4. Czyszczenie– Profesjonalne sprzątanie + pełna wielowymiarowa kontrola.

5. Raport– Wystawiono raport COA i zwrócono wyczyszczone części.

6. Kontynuacja– Śledzenie efektów i bieżące wsparcie techniczne.

6. Dlaczego warto wybrać usługę sprzątania VETEK?

VETEK łączy głęboką wiedzę specjalistyczną w zakresie technologii powlekania CVD SiC ze specjalistycznymi możliwościami czyszczenia wysokiej jakości susceptorów grafitowych. Rozumiemy krytyczne znaczenie integralności powłoki, kontroli cząstek i czystości procesu w epitaksji GaN/AlN. Nasza usługa jest przeznaczona dla klientów, którzy wymagają całkowitego bezpieczeństwa drogich powłok CVD SiC, jednocześnie całkowicie rozwiązując problemy związane z efektem pamięci i niestabilnością przepływu gazu.

· Możliwość czyszczenia próbnego w celu weryfikacji małych partii

· Pełny raport COA dostarczany przy każdej dostawie

· Zerowe ryzyko uszkodzenia powłoki lub nowego zanieczyszczenia

· Profesjonalny · Bezpieczny · Sprawdzalny