Produkty
Pierścień rozgrzewający
  • Pierścień rozgrzewającyPierścień rozgrzewający

Pierścień rozgrzewający

Pierścień podgrzewający służy w procesie epitaksji półprzewodników do wstępnego podgrzewania płytek i zapewnienia bardziej stabilnej i jednolitej temperatury płytek, co ma ogromne znaczenie dla wysokiej jakości wzrostu warstw epitaksji. Vetek Semiconductor ściśle kontroluje czystość tego produktu, aby zapobiec ulatnianiu się zanieczyszczeń w wysokich temperaturach. Zapraszamy do dalszej dyskusji z nami.

Pierścień podgrzewania wstępnego to kluczowe urządzenie zaprojektowane specjalnie do procesów epitaksjalnych (EPI) w produkcji półprzewodników. Służy do wstępnego podgrzewania płytek przed procesem EPI, zapewniając stabilność temperatury i równomierność podczas wzrostu epitaksjalnego.


Nasz pierścień EPI Pre Heat, wyprodukowany przez Vetek Semiconductor, oferuje kilka znaczących funkcji i zalet. Po pierwsze, jest budowany przy użyciu wysokich materiałów przewodności cieplnej, umożliwiając szybki i jednolity przenoszenie ciepła na powierzchnię płytki. Zapobiega to tworzeniu się hotspotów i gradientów temperatury, zapewniając spójne osadzanie się oraz poprawę jakości i jednolitości warstwy epitaksjalnej. Ponadto nasz pierścień EPI przed ciepłem jest wyposażony w zaawansowany system kontroli temperatury, umożliwiając precyzyjną i spójną kontrolę temperatury przed podgrzewaniem. Ten poziom kontroli zwiększa dokładność i powtarzalność kluczowych etapów, takich jak wzrost kryształów, osadzanie materiału i reakcje interfejsu podczas procesu EPI.


Trwałość i niezawodność to istotne aspekty projektowania naszych produktów. Pierścień podgrzewający EPI jest zbudowany tak, aby wytrzymywać wysokie temperatury i ciśnienia robocze, zachowując stabilność i wydajność przez dłuższy czas. Takie podejście do projektowania zmniejsza koszty konserwacji i wymiany, zapewniając długoterminową niezawodność i wydajność operacyjną. Instalacja i obsługa pierścienia podgrzewającego EPI jest prosta, ponieważ jest on kompatybilny ze zwykłym sprzętem EPI. Posiada przyjazny dla użytkownika mechanizm umieszczania i wyjmowania płytek, zwiększający wygodę i wydajność operacyjną.


W VeTek Semiconductor oferujemy również usługi dostosowywania do specyficznych wymagań klientów. Obejmuje to dostosowanie rozmiaru, kształtu i zakresu temperatur pierścienia podgrzewającego EPI do indywidualnych potrzeb produkcyjnych. Badaczom i producentom zajmującym się wzrostem epitaksjalnym i produkcją urządzeń półprzewodnikowych pierścień podgrzewający EPI firmy VeTek Semiconductor zapewnia wyjątkową wydajność i niezawodne wsparcie. Służy jako kluczowe narzędzie umożliwiające osiągnięcie wysokiej jakości wzrostu epitaksjalnego i ułatwienie wydajnych procesów produkcji urządzeń półprzewodnikowych.


Dane SEM z filmu CVD SIC

SEM DATA OF CVD SIC FILM

Podstawowe właściwości fizyczne powłoki CVD SIC:

Podstawowe właściwości fizyczne powłoki CVD SIC
Nieruchomość Typowa wartość
Struktura kryształu FCC β faza polikrystaliczna, głównie (111) zorientowana
Gęstość powłoki SiC 3,21 g/cm³
SIC Twardość 2500 Vickers Twardość (500 g ładowanie)
Wielkość ziarna 2 ~ 10 mm
Czystość chemiczna 99,99995%
Pojemność cieplna 640 J · kg-1· K-1
Temperatura sublimacji 2700 ℃
Wytrzymałość na zginanie 415 MPA RT 4-punktowy
Moduł Younga Zagięcie 430 Gpa, 4-punktowe, 1300 ℃
Przewodność cieplna 300W·m-1· K-1
Rozszerzalność cieplna (CTE) 4,5×10-6K-1


Półprzewodnik VeTekPierścień przed podgrzewaniemSklep produkcyjny

SiC Graphite substratePre-Heat Ring testSilicon carbide ceramic processingEPI process equipment


Gorące Tagi: Pierścień rozgrzewający
Wyślij zapytanie
Informacje kontaktowe
W przypadku pytań dotyczących powłoki z węglika krzemu, powłoki z węglika tantalu, specjalnego grafitu lub cennika, zostaw nam swój e-mail, a my skontaktujemy się z tobą w ciągu 24 godzin.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept