Produkty
Pierścień rozgrzewający
  • Pierścień rozgrzewającyPierścień rozgrzewający

Pierścień rozgrzewający

Pierścień podgrzewający służy w procesie epitaksji półprzewodników do wstępnego podgrzewania płytek i zapewnienia bardziej stabilnej i jednolitej temperatury płytek, co ma ogromne znaczenie dla wysokiej jakości wzrostu warstw epitaksji. Vetek Semiconductor ściśle kontroluje czystość tego produktu, aby zapobiec ulatnianiu się zanieczyszczeń w wysokich temperaturach. Zapraszamy do dalszej dyskusji z nami.

Pierścień podgrzewania wstępnego to kluczowe urządzenie zaprojektowane specjalnie do procesów epitaksjalnych (EPI) w produkcji półprzewodników. Służy do wstępnego podgrzewania płytek przed procesem EPI, zapewniając stabilność temperatury i równomierność podczas wzrostu epitaksjalnego.


Nasz pierścień EPI Pre Heat, wyprodukowany przez Vetek Semiconductor, oferuje kilka znaczących funkcji i zalet. Po pierwsze, jest budowany przy użyciu wysokich materiałów przewodności cieplnej, umożliwiając szybki i jednolity przenoszenie ciepła na powierzchnię płytki. Zapobiega to tworzeniu się hotspotów i gradientów temperatury, zapewniając spójne osadzanie się oraz poprawę jakości i jednolitości warstwy epitaksjalnej. Ponadto nasz pierścień EPI przed ciepłem jest wyposażony w zaawansowany system kontroli temperatury, umożliwiając precyzyjną i spójną kontrolę temperatury przed podgrzewaniem. Ten poziom kontroli zwiększa dokładność i powtarzalność kluczowych etapów, takich jak wzrost kryształów, osadzanie materiału i reakcje interfejsu podczas procesu EPI.


Trwałość i niezawodność to istotne aspekty projektowania naszych produktów. Pierścień podgrzewający EPI jest zbudowany tak, aby wytrzymywać wysokie temperatury i ciśnienia robocze, zachowując stabilność i wydajność przez dłuższy czas. Takie podejście do projektowania zmniejsza koszty konserwacji i wymiany, zapewniając długoterminową niezawodność i wydajność operacyjną. Instalacja i obsługa pierścienia podgrzewającego EPI jest prosta, ponieważ jest on kompatybilny ze zwykłym sprzętem EPI. Posiada przyjazny dla użytkownika mechanizm umieszczania i wyjmowania płytek, zwiększający wygodę i wydajność operacyjną.


W VeTek Semiconductor oferujemy również usługi dostosowywania do specyficznych wymagań klientów. Obejmuje to dostosowanie rozmiaru, kształtu i zakresu temperatur pierścienia podgrzewającego EPI do indywidualnych potrzeb produkcyjnych. Badaczom i producentom zajmującym się wzrostem epitaksjalnym i produkcją urządzeń półprzewodnikowych pierścień podgrzewający EPI firmy VeTek Semiconductor zapewnia wyjątkową wydajność i niezawodne wsparcie. Służy jako kluczowe narzędzie umożliwiające osiągnięcie wysokiej jakości wzrostu epitaksjalnego i ułatwienie wydajnych procesów produkcji urządzeń półprzewodnikowych.


Dane SEM z filmu CVD SIC

SEM DATA OF CVD SIC FILM

Podstawowe właściwości fizyczne powłoki CVD SIC:

Podstawowe właściwości fizyczne powłoki CVD SIC
Nieruchomość Typowa wartość
Struktura kryształu FCC β faza polikrystaliczna, głównie (111) zorientowana
Gęstość powłoki SiC 3,21 g/cm³
SIC Twardość 2500 Vickers Twardość (500 g ładowanie)
Wielkość ziarna 2 ~ 10 mm
Czystość chemiczna 99,99995%
Pojemność cieplna 640 J · kg-1· K-1
Temperatura sublimacji 2700 ℃
Wytrzymałość na zginanie 415 MPA RT 4-punktowy
Moduł Younga Zagięcie 430 Gpa, 4-punktowe, 1300 ℃
Przewodność cieplna 300W·m-1· K-1
Rozszerzalność cieplna (CTE) 4,5×10-6K-1


Półprzewodnik VeTekPierścień przed podgrzewaniemSklep produkcyjny

SiC Graphite substratePre-Heat Ring testSilicon carbide ceramic processingEPI process equipment


Gorące Tagi: Pierścień rozgrzewający
Wyślij zapytanie
Informacje kontaktowe
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
X
Używamy plików cookie, aby zapewnić lepszą jakość przeglądania, analizować ruch w witrynie i personalizować zawartość. Korzystając z tej witryny, wyrażasz zgodę na używanie przez nas plików cookie.Polityka prywatności