Aktualności

Wiadomości branżowe

Oparta na 8-calowych krzemowych węglikach z pojedynczym kryształowym piecem11 2024-07

Oparta na 8-calowych krzemowych węglikach z pojedynczym kryształowym piecem

Krzemowy węglik jest jednym z idealnych materiałów do wytwarzania urządzeń o wysokiej temperaturze, wysokiej częstotliwości, wysokiej mocy i wysokiego napięcia. W celu poprawy wydajności produkcji i zmniejszenia kosztów, przygotowanie dużych substratów z węglików krzemowych jest ważnym kierunkiem rozwoju.
Według doniesień chińskie firmy opracowują chipy w procesie 5 nm wspólnie z Broadcomem!10 2024-07

Według doniesień chińskie firmy opracowują chipy w procesie 5 nm wspólnie z Broadcomem!

Według zagranicznych wiadomości, dwa źródła ujawniły 24 czerwca, że ​​Bytedance współpracuje z amerykańską firmą Design Company Broadcom w celu opracowania zaawansowanego procesora komputerowego sztucznej inteligencji (AI), który pomoże Brzetedance zapewnić odpowiednią dostawę wysokiej klasy chipów pośród napięć między Chinami i Stany Zjednoczone.
Sanan Optoelectronics Co., Ltd.: Oczekuje się, że 8-calowe chipy SiC zostaną wprowadzone do produkcji w grudniu!09 2024-07

Sanan Optoelectronics Co., Ltd.: Oczekuje się, że 8-calowe chipy SiC zostaną wprowadzone do produkcji w grudniu!

Jako wiodący producent w branży SiC, związana z nią dynamika firmy Sanan Optoelectronics spotkała się z szerokim zainteresowaniem w branży. Niedawno firma Sanan Optoelectronics ujawniła szereg najnowszych osiągnięć, obejmujących transformację 8-calową, produkcję fabryczną nowych substratów, zakładanie nowych firm, dotacje rządowe i inne aspekty.
Zastosowanie części grafitowych pokrytych TaC w piecach monokrystalicznych05 2024-07

Zastosowanie części grafitowych pokrytych TaC w piecach monokrystalicznych

We wzroście monokryształów SiC i AlN metodą fizycznego transportu pary (PVT) kluczową rolę odgrywają kluczowe elementy, takie jak tygiel, pojemnik na nasiona i pierścień prowadzący. Jak pokazano na rysunku 2 [1], podczas procesu PVT kryształ zaszczepiający umieszczany jest w niższym obszarze temperatur, natomiast surowiec SiC poddawany jest działaniu wyższych temperatur (powyżej 2400 ℃).
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept