Aktualności

Aktualności

Chętnie podzielimy się z Państwem wynikami naszej pracy, nowościami firmowymi, a także przedstawimy aktualne zmiany oraz warunki przydzielania i usuwania personelu.
Przepis na osadzanie warstwy ALD27 2024-07

Przepis na osadzanie warstwy ALD

Przestrzenne ALD, przestrzennie izolowane osadzanie warstw atomowych. Płytka przemieszcza się pomiędzy różnymi pozycjami i w każdej pozycji jest poddawana działaniu różnych prekursorów. Poniższy rysunek przedstawia porównanie tradycyjnej ALD i przestrzennie izolowanej ALD.
Przełom technologii węglika Tantalum, Zanieczyszczenie epitaksjalne SIC zmniejszone o 75%?27 2024-07

Przełom technologii węglika Tantalum, Zanieczyszczenie epitaksjalne SIC zmniejszone o 75%?

Niedawno niemiecki Instytut Badawczy Fraunhofer IISB dokonał przełomu w badaniach i rozwoju technologii powlekania węgla Tantalum i opracował rozwiązanie powlekania natryskowego, które jest bardziej elastyczne i przyjazne dla środowiska niż rozwiązanie do odkładania CVD i zostało skomercjalizowane.
Eksprawne zastosowanie technologii drukowania 3D w branży półprzewodników19 2024-07

Eksprawne zastosowanie technologii drukowania 3D w branży półprzewodników

W dobie szybkiego rozwoju technologicznego druk 3D, jako ważny przedstawiciel zaawansowanej technologii wytwarzania, stopniowo zmienia oblicze tradycyjnego wytwarzania. Dzięki ciągłemu rozwojowi technologii i redukcji kosztów technologia druku 3D otworzyła szerokie perspektywy zastosowania w wielu dziedzinach, takich jak przemysł lotniczy, produkcja samochodów, sprzęt medyczny i projektowanie architektoniczne, a także promuje innowacje i rozwój tych branż.
X
Używamy plików cookie, aby zapewnić lepszą jakość przeglądania, analizować ruch w witrynie i personalizować zawartość. Korzystając z tej witryny, wyrażasz zgodę na używanie przez nas plików cookie.Polityka prywatności
OdrzucićPrzyjąć